北京浅蓝纳米科技发展有限责任公司

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高真空多靶磁控溅射镀膜机

更新日期:2025-05-15
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产品参数:

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产品详情

MS-450高真空多靶磁控溅射镀膜机

真空腔室:直径450✕H400mm,1Cr18Ni9Ti优质不锈钢材质,氩弧焊接,前开门结构;

真空系统:机械泵+分子泵(进口和国产可选);

极限真空:优于5✕10-5Pa(经烘烤除气后);

真空抽速:大气~8✕10-4Pa≤30min;

升降基片台:2~6英寸基片台,靶基距60~120mm连续在线自动可调,旋转0~20r/min可调,可加热至500℃(可选水冷功能),可选配偏压清洗功能;

磁控靶:直径3英寸2~4只(可升级成直径4英寸靶2~3只),兼容直流和射频,可以溅射磁性材料的靶材;

溅射电源:直流脉冲溅射电源、全自动匹配的射频溅射电源可任选;

质量流量计:2~3路工艺气体,可根据工艺要求增加;

膜厚监控仪:可选配国产或进口单水冷探头膜厚仪;

控制方式:PLC+触摸屏控制系统,具备漏气自检与提示、通讯故障,实现一键抽停真空。

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